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佛山市佛欣真空技术有限公司

工件架的转速应当选择得当,旋转速度太快时,蒸发效果不好,精密磨具硬质涂层设备工厂,转速太慢,精密磨具硬质涂层设备研发,工件架尚未旋转一周,蒸发材料就蒸发完毕,不能保证膜的均匀性。因此一般要根据每次蒸镀时所需的短时间、旋转工件架的线速度及其运动过程的稳定性等方面进行综合考虑来确定工件架的大转速。一般转速不应大于40r/min。通常超高真空蒸发镀膜机上的球面行星转动工件架的转速范围可选择为园 耀 猿远 则 辕 皂蚤灶,而且其转速应该是可调的。



靶的磁场强度设计应考虑靶的功率效率,即靶单位功率密度下的沉积速率。有关研究表明,在一定的参数范围内,靶刻蚀跑道的宽度与施加磁场强度的圆 次方根成反比,与施加电压的四次方根成正比。这说明采用比较弱的磁场,可以增加刻蚀跑道宽度,提高靶材的利用率。相关实验还发现,精密磨具硬质涂层设备,工作气体的电离效率与靶磁场强度的关系也近似为饱和曲线。这表明,如果靶的磁场强度过低,沉积的功率效率会明显下降;如果靶磁场强度过高,靶的功率效率达到饱和基本不变;靶磁场只有在适中的强度范围内,其功率效率才正比于磁场强度。因此,从总体上讲,靶磁场增大到一定程度,电离效率和功率效率会达到饱和。




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